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        <title>CEATEC JAPAN 2009 プレスリリース</title>
        <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/press_media/press_release.html</link>
        <description>CEATEC JAPAN 2009の出展者からのプレスリリース、また運営事務局からのプレスリリースを発信しております。</description>
        <lastBuildDate>Tue, 16 Feb 2010 10:37:54</lastBuildDate>
        <docs>http://blogs.law.harvard.edu/tech/rss</docs>
        <item>
            <title>『CEATEC JAPAN 2010』 出展募集を開始</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/infolist_detail.html?info_no=00059</link>
            <description>&lt;right&gt;平成22年2月16日&lt;/right&gt;
報 道 関 係 各 位
&lt;right&gt;CEATEC JAPAN 実施協議会&lt;/right&gt;

&lt;center&gt;最先端ＩＴ・エレクトロニクス展&lt;/center&gt;
&lt;center&gt;『ＣＥＡＴＥＣ ＪＡＰＡＮ ２０１０』&lt;/center&gt;
&lt;center&gt;１０月５日（火） ～ １０月９日（土）　幕張メッセ&lt;/center&gt;
&lt;center&gt;出展募集を開始&lt;/center&gt;

一般社団法人 情報通信ネットワーク産業協会（CIAJ：会長 篠塚勝正／OKI 取締役会長）、社団法人 電子情報技術産業協会（JEITA：会長 大坪文雄／パナソニック株式会社 代表取締役社長）、社団法人 コンピュータソフトウェア協会（CSAJ：会長 和田成史／株式会社オービックビジネスコンサルタント 代表取締役社長）の３団体は、2010年10月5日（火）から10月9日（土）までの5日間、幕張メッセ（千葉市美浜区）にて、最先端IT・エレクトロニクス展『CEATEC JAPAN 2010』を開催します。

　「CEATEC JAPAN」は、2000年の第1回開催以来10年間、IT・エレクトロニクス分野の最新・最先端を、日本から世界へ向け発信し続けてきました。 そして、次の10年に向けて、これまでに蓄積した経験と実績をベースに、急速に変化する経済環境やデジタル社会での産業・市場動向を踏まえ、産業界の発展とご参加いただく企業へ貢献する強い意志と戦略を持って、挑戦し続けます。
　今後の3年間においては、従来までの展示会という機能の枠を超え、国際会議や学会、視察団などを積極的に誘致するなど、国際的なビジネス機会を複合的に集約して「情報価値と発信力」をさらに強化し、出展企業、来場者、全ての関係者の「ビジネス効果」を高める、「国際的な次世代展示会」への変革を強力に推進していきます。

　『CEATEC JAPAN 2010』の開催に際しましては、昨年実施した土曜日開催の入場無料化につづき、開催初日を特別招待日と位置付け、開催日ごとの特色を打ち出し、出展者と来場者の目的を合わせることを目指します。また、出展企業と来場者の双方にとって実効性ある展示会トレード活動を具現化するため、本年よりBtoBに特化した展示ゾーンを新設して出展を募ります。

　上述の本年の施策等をご説明する『CEATEC JAPAN 2010 出展募集説明会』を来る2月18日（木）午後2時から、東京・大手町サンケイプラザにて開催し、出展募集を開始します。出展申込の締め切りは、一次申込が2010年4月30日、二次申込が5月28日となります。
&lt;right&gt;以　上&lt;/right&gt;

＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
■出展のお申し込み、本件に関するお問い合わせ先
CEATEC JAPAN運営事務局（一般社団法人 日本エレクトロニクスショー協会）担当：吉永
電話：（03）5402-7603　FAX：（03）5402-7606　E-mail：contact＠ceatec.com
〒105-0012　東京都港区芝大門1-12-16　住友芝大門ビル2号館5階

※3月1日以降の場合（一般社団法人 日本エレクトロニクスショー協会 移転のため）
電話：（03）6212-5233　FAX：（03）6212-5226  E-mail：contact＠ceatec.com
〒100-0004　東京都千代田区大手町1-1-3　大手センタービル12階
</description>
            <pubDate>Tue, 16 Feb 2010 12:00:00</pubDate>
        </item>
        <item>
            <title>ワイヤレス電源の検討に使える無料の電磁界シミュレータ</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/exhibitor_detail.html?press_id=00153</link>
            <description>ワイアレス電源に使用するアンテナ，共振器のQ，それらの空間結合の電気的パラメータと負荷インピーダンスなどの関係を，無料のソネット電磁界シミュレータを使って解説した文書を公開しました．</description>
            <pubDate>Tue, 13 Oct 2009 21:00:00</pubDate>
        </item>
        <item>
            <title>ＣＥＡＴＥＣ ＪＡＰＡＮ ２００９ 終了のご報告</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/infolist_detail.html?info_no=00056</link>
            <description>&lt;right&gt;平成21年10月10日&lt;/right&gt;
&lt;left&gt;報 道 関 係 各 位&lt;/left&gt;
&lt;center&gt;ＣＥＡＴＥＣ ＪＡＰＡＮ ２００９ 終了のご報告&lt;/center&gt;
&lt;right&gt;CEATEC JAPAN 実施協議会&lt;/right&gt;

拝啓　時下ますますご清栄のことと、心よりお喜び申し上げます。

　さて、10月6日（火）より5日間、幕張メッセ（千葉市美浜区）にて開催しておりました『CEATEC JAPAN 2009』は、590社・団体（うち海外：22カ国・地域から263社・団体）が2,123小間を出展し、登録来場者数150,302人をもって、本日10日、無事閉幕いたしました。

 来場者数の内訳は次の通りです。&lt;table width=&quot;675&quot; class=&quot;tbl&quot; cellpadding=&quot;0&quot; cellspacing=&quot;0&quot; border=&quot;0&quot; class=&quot;float: left;&quot;&gt;&lt;tr&gt;&lt;th&gt;&amp;nbsp;&lt;/th&gt;&lt;th&gt;10/6&lt;/th&gt;&lt;th&gt;10/7&lt;/th&gt;&lt;th&gt;10/8&lt;/th&gt;&lt;th&gt;10/9&lt;/th&gt;&lt;th&gt;10/10&lt;/th&gt;&lt;th class=&quot;eot&quot;&gt;合計&lt;/th&gt;&lt;/tr&gt;&lt;tr&gt;&lt;th class=&quot;row&quot;&gt;登録来場者数&lt;/th&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;19,608&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月1日--&gt;26,148&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月2日--&gt;10,452&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月3日--&gt;39,792&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月4日--&gt;30,058&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--合計--&gt;126,058&lt;/td&gt;&lt;/tr&gt;&lt;tr&gt;&lt;th class=&quot;row&quot;&gt;登録プレス数&lt;/th&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--9月30日--&gt;1,256&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月1日--&gt;421&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月2日--&gt;116&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月3日--&gt;333&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月4日--&gt;137&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--合計--&gt;2,263&lt;/td&gt;&lt;/tr&gt;&lt;tr&gt;&lt;th class=&quot;row&quot;&gt;出展関係者数&lt;/th&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--9月30日--&gt;5,789&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;4,836&lt;!--10月1日--&gt;&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月2日--&gt;2,225&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月3日--&gt;4,708&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月4日--&gt;4,423&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--合計--&gt;21,981&lt;/td&gt;&lt;/tr&gt;&lt;tr&gt;&lt;th class=&quot;row&quot;&gt;登録来場者合計&lt;/th&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--9月30日--&gt;26,653&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月1日--&gt;31,405&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月2日--&gt;12,793&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月3日--&gt;44,833&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月4日--&gt;34,618&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--合計--&gt;150,302&lt;/td&gt;&lt;/tr&gt;&lt;/table&gt;&lt;span style=&quot;font-size:0.8em;&quot;&gt;&lt;right&gt;※10/8(木)は台風のため13：00～17：00の開場時間&lt;/right&gt;&lt;/span&gt;

（ご参考）『CEATEC JAPAN 2008』来場者数内訳&lt;table width=&quot;675&quot; class=&quot;tbl&quot; cellpadding=&quot;0&quot; cellspacing=&quot;0&quot; border=&quot;0&quot;&gt;&lt;tr&gt;&lt;th&gt;&amp;nbsp;&lt;/th&gt;&lt;th&gt;9/30&lt;/th&gt;&lt;th&gt;10/1&lt;/th&gt;&lt;th&gt;10/2&lt;/th&gt;&lt;th&gt;10/3&lt;/th&gt;&lt;th&gt;10/4&lt;/th&gt;&lt;th class=&quot;eot&quot;&gt;合計&lt;/th&gt;&lt;/tr&gt;&lt;tr&gt;&lt;th class=&quot;row&quot;&gt;登録来場者数&lt;/th&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;18,940&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月1日--&gt;27,624&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月2日--&gt;38,165&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月3日--&gt;47,159&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月4日--&gt;25,972&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--合計--&gt;157,860&lt;/td&gt;&lt;/tr&gt;&lt;tr&gt;&lt;th class=&quot;row&quot;&gt;登録プレス数&lt;/th&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--9月30日--&gt;1,144&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月1日--&gt;397&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月2日--&gt;264&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月3日--&gt;294&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月4日--&gt;195&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--合計--&gt;2,294&lt;/td&gt;&lt;/tr&gt;&lt;tr&gt;&lt;th class=&quot;row&quot;&gt;出展関係者数&lt;/th&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--9月30日--&gt;8,758&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;6,618&lt;!--10月1日--&gt;&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月2日--&gt;7,575&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月3日--&gt;7,116&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月4日--&gt;6,409&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--合計--&gt;36,476&lt;/td&gt;&lt;/tr&gt;&lt;tr&gt;&lt;th class=&quot;row&quot;&gt;登録来場者合計&lt;/th&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--9月30日--&gt;28,842&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月1日--&gt;34,639&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月2日--&gt;46,004&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月3日--&gt;54,569&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--10月4日--&gt;32,576&lt;/td&gt;&lt;td style=&quot;text-align:right;&quot;&gt;&lt;!--合計--&gt;196,630&lt;/td&gt;&lt;/tr&gt;&lt;/table&gt;&lt;br /&gt;

&lt;p&gt;&amp;nbsp;&lt;/p&gt;

次回『CEATEC JAPAN 2010』は、2010年10月5日（火）より10月9日（土）まで、幕張メッセにて開催予定です。引き続き、皆様方のご支援とご協力を賜りますようお願い申し上げます。
&lt;right&gt;敬 具&lt;/right&gt;

本件に関するお問い合わせは、下記までお願いいたします。
CEATEC JAPAN 運営事務局　　担当：吉永
TEL：（03）5402-7603
FAX：（03）5402-7606
E-mail：press＠ceatec.com</description>
            <pubDate>Sat, 10 Oct 2009 23:00:00</pubDate>
        </item>
        <item>
            <title>名刺情報入力支援システムを実演中</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/exhibitor_detail.html?press_id=00151</link>
            <description>名刺情報入力支援システムを弊社ブースにて実演中です。是非お気軽に弊社ブースにお立ち寄り頂き、実際にお試しください
（7ホール　テクノロジーソリューションゾーン　７F１６）

一般の名刺読み取りＯＣＲでの読み取り誤り率は小さくない．特に業務に利用する場合には，ＯＣＲでの読み取りを人力で精査する必要がある．本システムは，フェールセーフの考えから，ＯＣＲでの読み取りにおいて，読み取った情報の正確さを計算するシステムであり，間違って読み取った部分を自動的に検出し，入力を指示するシステムである．このシステムにより，読み取ったすべての情報を精査する必要はなくなり，大幅に人力による入力の手間が減少する．
</description>
            <pubDate>Fri, 09 Oct 2009 18:00:00</pubDate>
        </item>
        <item>
            <title>無線ＬＡＮ暗号化方式ＷＥＰの解読法(KOBECRACK)の実演</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/exhibitor_detail.html?press_id=00150</link>
            <description>森井研究室では広く，暗号アルゴリズムを含む，暗号システム全般について，その安全性評価とともに，安全な暗号技術の開発を行っている．具体的には暗号アルゴリズムの開発，既存アルゴリズムの評価・解読，暗号システムの利用方法，およびその評価である．WEPの解読，およびWPA-TKIPへの攻撃方法の提案はその成果の一端である．

今回，特に今だに利用されているＷＥＰと呼ばれる無線ＬＡＮ暗号化方式について，いかなる104ビット鍵に設定しようとも，また従来のようにＩＶと呼ばれる初期設定ベクトルを制限しようとも，高々数万パケット（現状，一般に利用されるインターネット環境において，動画等のストリームデータを流している場合，10秒程度）を観測するだけで，瞬時に鍵（パスワード）を導出できる解読法を実装して，その実演を行う．
</description>
            <pubDate>Thu, 08 Oct 2009 15:00:00</pubDate>
        </item>
        <item>
            <title>ロームが酸化亜鉛(ZnO)系材料を用いた超小型高精度紫外線センサを開発！</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/exhibitor_detail.html?press_id=00146</link>
            <description>ロームはこのほど、酸化亜鉛（ZnO）系材料を用いた紫外線センサの開発に成功しました。この紫外線センサでは、UV（Ultra-Violet：紫外線）領域を帯域別に計測でき、例えば皮膚を黒くする紫外線であるUV-A(λ=400-320nm)、水ぶくれや赤いただれを生じさせてしまうUV-B(λ=320-280nm)の2つの波長域別に測定できます。これによりユーザーはきめ細かい情報を入手でき、より適切な紫外線対策を施すことができます。また、光学フィルタが必要なく、非常に小さく作ることが可能になりました。今後は量産技術の確立を急ぎ、2010年度の量産化を目指したいと考えています。

紫外線は、人間の健康への悪影響が広く知られており、紫外線センサ市場は拡大しつつあります。従来の紫外線センサでは、紫外線の曝露量を知るために、紫外線があたると色が変わるシート系のものや、シリコン系のフォトダイオードを転用したセンサを用いていました。しかしながら、シート系のものは精度が良くない上に繰り返し使えない、またフォトダイオードを転用したものは、可視光領域でのシリコン自身の吸収のために紫外線だけを取り出して測定することができないため可視光カットフィルタが必要でセンサが大きくなってしまう、などの課題がありました。今回ロームでは、シリコンプロセスの技術を応用して酸化亜鉛系材料の薄膜を形成し、可視光で透明に、紫外光で不透明になり、かつ材料組成で吸収波長域を制御できるという酸化亜鉛固有の物性を用いたセンシングを実現しました。これにより波長域毎のセンシングが小型サイズで実現することが可能となり、紫外線センサの小型化、携帯電話やポータブルデバイスなどへの応用展開が可能となります。
 
</description>
            <pubDate>Thu, 08 Oct 2009 00:00:00</pubDate>
        </item>
        <item>
            <title>ロームがフレキシブル有機EL デバイスを開発、照明デザインの新たな可能性を提案</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/exhibitor_detail.html?press_id=00147</link>
            <description>ロームはこのほど、次世代の照明デバイスとして期待されている「フレキシブルEL照明」の開発に成功しました。このデバイスは従来の有機ＥＬ（*１）の8 分の1 の軽さ、6 分の1 の薄さで、かつ曲げることができる光源であり、光を必要とするあらゆるシーンで、新たなデザイン.表現を可能とする発光デバイスです。具体的には一般照明、航空機や列車内の照明、ディスプレイなどの分野において、デザイン性を重視したハイエンド製品への搭載を想定しております。また超薄板ガラス、ガスバリア層による封止を行ったことで高い信頼性を実現するとともに、巻き取り可能なフレキシブル基板を採用したため、量産性の高い生産方式であるロール.ツー.ロールプロセスでの製造が可能であり、有機EL照明の広い普及に貢献できるものと考えております。</description>
            <pubDate>Thu, 08 Oct 2009 00:00:00</pubDate>
        </item>
        <item>
            <title>世界初、低抵抗SiC トレンチMOSFET の大幅な大容量化に成功！</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/exhibitor_detail.html?press_id=00148</link>
            <description>　京都大学大学院工学研究科木本恒暢教授とローム株式会社の研究グループは、従来は大電流化が難しいとされていたSiC(シリコンカーバイド：炭化珪素)を用いた大面積トレンチゲート縦型MOSFETで、大幅な大電流化を実現、単チップ300A 駆動に成功しました。このチップの開発により、これまでSi デバイスでしか実現できていなかった大電流電力変換モジュールへの、SiC デバイス適用の可能性が大きく広がり、省エネ時代を支える技術として大きく前進しました
　
今回の開発成果は、結晶欠陥の低減による大面積化（従来のチップ面積3mm 角から4.8mm 角）と、トレンチゲート構造による低オン抵抗化（従来の3mm 角のものに比べさらに約20％低減）の実現によるもので、Si デバイスの電流容量に大きく近づいたことにより、従来のSi デバイスをSiC デバイスに置き換えるだけで電力変換モジュールの大幅な小型化と高効率化ができる目途をつけたと言えます。
</description>
            <pubDate>Thu, 08 Oct 2009 00:00:00</pubDate>
        </item>
        <item>
            <title>冷陰極管でLED並み消費電力の蛍光灯</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/exhibitor_detail.html?press_id=00144</link>
            <description>株式会社エイコーは、液晶テレビのバックライトなどに使われている冷陰極管（CCFL）を光源とする環境対応型省エネ蛍光灯「E・COOL」を販売している。消費電力および耐久性はLEDと同等で、一般蛍光灯より明るい。
蛍光灯だけの消費電力は22ワット、内蔵のインバータを含めると27ワット。年間の二酸化炭素排出量を一般蛍光灯に比べて約40%削減することができる。さらに、LEDのように放熱の必要がないので空調の消費電力も節約できる。
一般蛍光灯に使われている40ワット型の灯具をそのまま使用することができて、照度は１メートル下で390ルックス以上、定格寿命４万時間、価格はインバータ内蔵で税抜き7,500円。これは直管蛍光灯型LEDの約半額以下。
開発元は、仙台のオプトロムおよび台湾のベンチャー企業でインバータ専業のグレートトップテクノロジー。</description>
            <pubDate>Wed, 07 Oct 2009 02:00:00</pubDate>
        </item>
        <item>
            <title>デジタルサイネージに最適な裸眼立体ディスプレイ</title>
            <link>http://www.ceatec.com/2009/ja/news/exhibitor_detail.html?press_id=00143</link>
            <description>株式会社エイコーは、3Dコンピュータ・グラフィクス(CG)を簡単な操作で裸眼立体ディスプレイに表示するシステムを公開した。
これまで裸眼立体ディスプレイのコンテンツ制作コストが高価なことからその利用が進まなかった。そこで、有限会社アイ・エヌ・ピーが開発した50インチ裸眼立体ディスプレイおよび360度の指定角度でコピーした静止画処理ソフトウェアを活用して裸眼で鑑賞することができる簡便な立体コンテンツ制作システムを開発した。
同ディスプレイは、フルハイビジョンの50型プラズマディスプレイ、および3Dレンズアダプターから構成され、立体視差数９、最適視認距離４ｍを特徴とする。
本システムの主な用途は、生産・開発現場におけるCAD/CGデータを利用した360度3D画像によるリアルな製品イメージの創出、および博物館・展示会における静止画の実写撮影による貴重な収蔵物の立体アーカイブとしての活用あるいは仮想展示会を可能にする。
裸眼立体視が持つ臨場感およびリアルな感覚は、広告媒体としての効果が大きいことから新しいデジタルサイネージとしての利用も期待される。</description>
            <pubDate>Wed, 07 Oct 2009 01:00:00</pubDate>
        </item>
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